突破傳統3D線雷射檢測瓶頸-紫光雷射三角法 In-Line半導體封裝檢測

Jun 23, 2021

AOI 3D光學檢測市場上,我們常聽到"精準度"與"速度"是取捨(trade-off)或零和賽局(zero-sum game),使用者必須有所選擇。但西克(SICK Sensor Intelligence)的紫光雷射的三角法已經超越了這個限制,以每秒200毫米的速度,提供亞微米(Sub-Micro)的檢測精度,平均15秒就能檢測完一片完整的8吋晶圓,提供本土半導體封測產業一個相當大的推進力。

Blog-3D line laser-tw-zf-image
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半導體"前段檢測"屬於裸晶類型之產品,基於特殊的表面反光性質,各大檢測AOI廠家積極地尋找新的解決方案

半導體檢測中, 往往因"不同表面性質的基板", 造成檢測上的誤差, 台灣西克首創紫光三角法, 成功協助許多國內外AOI設備廠家以最高速度解開微凸塊的檢測瓶頸。

Blog-3D line laser-tw-zf-image-02-1_半導體微凸塊在3D點雲中的圖像
半導體微凸塊在3D點雲中的圖像
Blog-3D line laser-tw-zf-image-02-1_半導體微凸塊在3D點雲中的圖像
半導體微凸塊在3D點雲中的圖像

開放式3D檢測方案 VS 模組化3D方案

“現在流行於市場上的三角量測技術,99%都是已模組化的產品,在微距世界中,逐漸失去了創新的可能性。”

由於使用便利性的因素,規模較小之使用者會選擇已配套完成的”三角法模組”,但由於”角度”與”光學元件”的侷限性,在高度50um以下的尺寸會開始失真與變形,即便使用軟體進行優化,也無法回歸到最真實的準度。台灣西克工程單位表示,紫光面對半導體產品時,有非常穩定的光斑(Light Spot),透過紫光極短波長的特性,其附著在"高反射"物件上之效果穩定度遠遠高過其他可見光的3~5倍,並經由特殊旋轉角,來解決遮蔽等議題,非常適合現今半導體AOI設備商來做使用。

Blog-3D line laser-tw-zf-image-03-3D檢測方案比較表
3D檢測方案比較表
Blog-3D line laser-tw-zf-image-03-3D檢測方案比較表
3D檢測方案比較表

“隨著IC晶片的尺寸持續縮小,檢測IC封裝中所有的缺陷變得越來越困難,半導體封測廠面臨莫爾定律(Moore’s Law)所丟出的戰帖, 這並非單單抽檢, 而是100%的全檢需求。”

就如我們手中最常用的Iphone, 裡面包含了數百顆常用的小型IC,這些小型IC在組裝前都需要確保”品質正常”。那麼,檢測的難度又在哪呢?

如下方的圖一、圖二所示,在每一隻手機裡,有數百顆IC,而每個IC中又存在著數百萬顆"微型凸塊(Bumps),而這麼多的微米級凸塊,過往只能在小型Offline量測儀中進行觀測,非常難直接落實到產線應用中,原因就是在"速度""檢測尺寸"上無法突破. 從微觀角度來看,封裝前的WAFER中包含數以千萬的金屬連接(Bump), 其中一顆金屬接(Bump)若產生壓傷或是缺角, 就會造成未來製程上的巨額損失。

Blog-3D line laser-tw-zf-image-04_圖一_出處: TechSearch international Inc
圖一
Blog-3D line laser-tw-zf-image-04_圖一_出處: TechSearch international Inc
圖一
Blog-3D line laser-tw-zf-image-05_圖二
圖二
Blog-3D line laser-tw-zf-image-05_圖二
圖二

“負責與外部與PCB導通的金屬球, 我們稱之為BGA(球格陣列), 內部與晶片相連的我們稱之為Bump(凸塊)” 

舉一個在業界常見的記憶模組封裝案例,HBM(High Bandwidth Memory),此封裝中常見凸塊節點的導通案例:錫鉛凸塊(solder bumps)轉移。目前有不同的錫鉛凸塊技術可運用在量產上,這些技術包括了電鍍、銲膏刷印、蒸鍍與銲球直接黏著等方式。覆晶封裝(Flip Chip in Package,FCiP)則需要在很密的間距(pitch)中,產生很多小型凸塊,而晶圓級晶片尺寸封裝(Wafer Level Chip Scale Packaging,WLCSP)一般只需要在較大的間距內,具有眾多的錫鉛凸塊。覆晶技術(Flip Chip Technology)已成為元件構裝技術的主流之一,不論是那一種覆晶技術,凸塊的製作是不可或缺的, 為了因應環保議題, 甚至發展到無鉛凸塊(Lead Free Solder)。隨著半導體技術的發展及產品功能的多樣化,元件構裝技術的種類也越來越多變,以符合不同的需求。

Blog-3D line laser-tw-zf-image-06_負責與外部與PCB導通的金屬球BGA(球格陣列), 內部與晶片相連的Bump(凸塊)
負責與外部與PCB導通的金屬球BGA(球格陣列), 內部與晶片相連的Bump(凸塊)
Blog-3D line laser-tw-zf-image-06_負責與外部與PCB導通的金屬球BGA(球格陣列), 內部與晶片相連的Bump(凸塊)
負責與外部與PCB導通的金屬球BGA(球格陣列), 內部與晶片相連的Bump(凸塊)
Blog-3D line laser-tw-zf-image-07_Source: Photolithography Equipment and Materials for Advanced Packaging, MEMS and LED Application report, Yole Dévelopment, June 2015
Source: Photolithography Equipment and Materials for Advanced Packaging, MEMS and LED Application report, Yole Dévelopment, June 2015
Blog-3D line laser-tw-zf-image-07_Source: Photolithography Equipment and Materials for Advanced Packaging, MEMS and LED Application report, Yole Dévelopment, June 2015
Source: Photolithography Equipment and Materials for Advanced Packaging, MEMS and LED Application report, Yole Dévelopment, June 2015