Måling af lagtykkelser på halvlederwafere
Produktionen af elektroniske kredsløb i mikrostruktur på halvlederwafere er en yderst kompleks proces. For at sikre at disse kredsløb lever op til de definerede krav – altså har robuste bane- og lagstrukturer – og samtidigt for at reducere materialespild, er det ubetinget nødvendigt at foretage målinger af lagtykkelserne. Da tykkelserne af de påførte lag ligger i µm-området, skal der tages et egnet målesystem i anvendelse. OC Sharp er særdeles velegnet til den slags opgaver. Med denne afstandssensor kan lagtykkelserne på halvlederwafere bestemmes med stor nøjagtighed helt fra 3 µm og med en opløsning i nm-området.
-
Følgende produktfamilier kan indsættes
Kromatisk-konfokal måleteknik for maksimal præcision- Mange målespændinger fra 600 µm til 12 mm
- Kromatisk-konfokal sensorteknologi for maksimal driftssikkerhed og præcision
- Hurtig målefrekvens fra op til 4.000 Hz
- Pålidelig måling af de mest forskellige materialer og farver
- Måling af gennemsigtige materialers tykkelse med et enkelt sensorhoved (kromatisk-konfokal til lagtykkelser fra og med 30 µm og interferometrisk til lagtykkelser fra og med 3 µm).
- Meget lille lysplet til måling af meget små objekter
- Bekvem parametrering ved hjælp af OC Sharp-software