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SICK SPA
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Lo specialista per i gas UV-absorbing 

Fotometro di processo DEFOR 

 
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I gas possono essere identificati e analizzati mediante la loro “impronta digitale” spettrale. DEFOR utilizza le caratteristiche ottiche del gas all’interno della gamma spettrale ultravioletta e analizza fino a tre componenti contemporaneamente. DEFOR è esente da interferenze, ad esempio rispetto a CO2 e H2O, e questo è uno dei fattori che rende più semplice ottenere misurazioni esatte in molte applicazioni. Su turbine a gas, nelle centrali elettriche, impianti DeNOx e unità di desolforazione, DEFOR controlla anche limiti di soglia molto bassi.
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Caratteristiche  

 
  • Esente da interferenze, ad esempio rispetto a CO2 e H2O
  • Alta selettività nella misura di NO e NO2
  • Misura di riferimento reale con la formazione di doppi quozienti
  • Durata nel tempo della lampada UV notevolmente aumentata
  • Termoregolazione di cuvette e filtri ottici di misura
  • Innovativo sistema di elaborazione del segnale, maggior stabilità nel lungo periodo
  • Unità di regolazione opzionale

Aree di applicazione 

 
  • Misurazione di Cl2, anche combinata con O2
  • Misurazione di composti di zolfo in gas di processo
  • Misurazione di NO, NO2 e NH3 nella sintesi dell'acido nitrico
  • Misurazione di H2S e SO2  in impianti di recupero dello zolfo
  • Misurazione di alte concentrazioni di H2S in gas acidi e reattivi
  • Measurazione di H2 in Cl2 o vice versa

Vantaggi per il cliente 

 
  • Elevata stabilità grazie alla misura del gas di riferimento reale 
  • Misurazioni simultanee di NO and NO2 senza convertitore o ozono, anche a basse concentrazioni
  • Scarsa manutanzione
  • Possibile regolazione senza gas di taratura
  • Insensibile alle variazioni di temperatura
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