Durch den spektralen „Fingerabdruck" lassen sich Gase identifizieren und analysieren. DEFOR nutzt die optischen Eigenschaften von Gasen im ultravioletten Spektralbereich und misst bis zu drei Messkomponenten simultan. Es bestehen keine Querempfindlichkeiten gegenüber CO2 und H2O. Auch deshalb ist die Gewinnung exakter Messwerte in vielen Anwendungen vereinfacht. An Gasturbinen, in Kraftwerken, DeNOx-Anlagen oder Entschwefelungsanlagen überwacht DEFOR selbst sehr geringe Grenzwerte.
UV-Gasanalysator zum Nachweis von StickoxidenZusätzlich zur Messung äußerst kleiner NO-Konzentrationen kann mit DEFOR gleichzeitig NO2 bestimmt werden. Das macht den Einsatz eines Chemielumineszens-(CLD)-Analysators oder eines NO2-Konverters bei vielen Emissionsmessungen überflüssig. Die „intelligente" Software von DEFOR kann beide separat gemessenen Konzentrationen als NOx-Summe ausgeben. Das reduziert Investitions- und Betriebskosten. Als ideale Ergänzung für die Überwachung von Emissionsgrenzwerten kann als dritte Komponente SO2 in kleinen Konzentrationen gemessen werden.
Zusätzliche Kapazitäten Neben der Messung von UV-aktiven Gasen kann der DEFOR mit weiteren Messmodulen von SICK zusammenarbeiten – alle integriert in einem Gehäuse. So können mit einem paramagnetischen O2-Sensor und einem Wärmeleitfähigkeitsdetektor zusätzlich noch Sauerstoff und Wasserstoff gemessen werden. Das erweitert die Einsatzmöglichkeiten erheblich. Insbesondere die chemische und petrochemische Industrie profitieren davon. Die Überwachung von einzelnen Komponenten in der Produktion, zum Beispiel von Chlor in der Kunststoffproduktion, ist ebenso möglich wie die Bestimmung von Schwefelkomponenten in der Schwefelsäureproduktion oder in Erdgas.
Detektieren und vergleichenDas Prozessfotometer DEFOR misst Gaskonzentrationen durch Absorption von UV-Strahlen. Eine elektrodenlose Entladungslampe emittiert sowohl NO-spezifische als auch andere breitbandige Strahlungen. In der thermostatisierten Filterradeinheit werden mit Interferenz- und Gasfiltern optimale Mess- und Vergleichswellenlängen in Bezug zur Gaskomponente ausgewählt. Über die Messküvette und Referenzküvette werden diese Strahlen an Detektoren weitergeleitet. Aus den ermittelten Signalwerten wird pro Detektor ein Quotient gebildet und zueinander ins Verhältnis gesetzt. Diese Doppelquotientenbildung kompensiert nicht nur proportionale Signal-Driften, sondern auch symmetrische Driften. Zusätzlich erfolgt eine elektronische Querempfindlichkeitsverrechnung. Dieses Messverfahren steht für Selektivität und Empfindlichkeit bei gleichzeitig hoher Stabilität des Prozessfotometers. Einzigartig ist das spezielle Design der UV-Lampe. Den SICK-Ingenieuren ist es gelungen, die Lebensdauer dieser Lampe im Vergleich zu anderen heute existierenden UV-Lichtquellen deutlich zu verlängern.
Pflegeleicht und wartungsarmDurch den Einsatz der optionalen Justiereinheit kann auf die Verwendung von Prüfgasen verzichtet werden. Die Justierung erfolgt mit automatisch einschwenkbaren Justierfiltern. Die innovative Signalverarbeitung und die hochstabilen Detektoren ermöglichen eine hervorragende Langzeitstabilität. Driften und Einflusseffekte werden kompensiert. Fernüberwachung über Netzwerke und die Anbindung an Prozessleitsysteme ist durch modernste Elektronik und Software einfach zu realisieren. Auch die Wartung ist einfach durchzuführen, denn der DEFOR ist mit einzelnen Baugruppen modular aufgebaut. Eine Logbuchfunktion mit Statusmeldungen macht eine komfortable Fehlersuche möglich.
DEFOR gibt es im 19''-Einschubgehäuse und alternativ in einem Wandgehäuse für raue Einsatzbedingungen. Das Wandgehäuse ist speziell für den Einsatz in der chemischen Industrie konzipiert. Die Elektronik ist gasdicht vom Analysenteil getrennt. So sind Beschädigungen der Elektronik durch korrosive oder aggressive Messgase von vornherein ausgeschlossen. Optional kann eine separate Gehäusespülung für noch mehr „Sauberkeit" sorgen.
Für den explosionsgefährdeten Einsatzort ist der DEFOR selbstverständlich mit der Schutzart Überdruckkapselung in der Ex-Zone 1 und in der Ex-Zone 2 einsetzbar.
SICK zählt weltweit seit Jahrzehnten zu den innovativsten Unternehmen der Sensorbranche. Neueste technologische Erkenntnisse und Verfahren werden in innovative Produkte und Systemlösungen umgesetzt. Sie positionieren SICK als Technologie- und Marktführer in den Kundensegmenten der Fabrik-, Logistik- und Prozessautomation.
Von Februar 2009 bis Februar 2010 sind mehr als 50 Innovationen bei Sensor- und Steuerungslösungen geplant. SICK wird im Rahmen des „SICK Innovationsmarathon 2009“ wöchentlich ein neues Produkt lancieren. Alle Innovationen von No. 1 bis No. 52 sind mehr als nur Produkte: Sie lösen Aufgaben intelligent, effizient und präzise. Und schaffen überlegenen Kundennutzen.